philliptech 石英晶体 tan05rcig：高精度薄膜工艺的可靠之选 -加拿大28

在精密制造领域，石英晶体作为薄膜沉积过程中的关键监测元件，其性能直接影响产品的质量与精度。philliptech 推出的 tan05rcig 型号石英晶体，为 ald、cvd、溅射等严苛薄膜工艺提供了稳定可靠的加拿大28的解决方案。

tan05rcig 石英晶体采用 5.000 mhz 频率设计，结合独特的 rc（辐射补偿）at 切割技术，在面对热应力环境时，能出色保持测量精度与频率稳定性。其双锚电极模式经过精心设计，可与 inficon、maxtek、sigma instruments 及 sycon 等主流品牌的沉积控制器和 qcm 系统完美兼容，极大降低了设备集成难度，为生产线的顺畅运行提供保障。

传统石英晶体在高能沉积环境中常面临诸多局限，而 tan05rcig 搭载的 rc 技术有效突破了这一困境。它具备强大的抗干扰能力，能抵御辐射热和源通量造成的频率偏移，同时可消除因快门打开或等离子点火引发的误报率峰值，确保监测数据的准确性。即便在温度循环、离子轰击以及薄膜应力等复杂工况下，该晶体仍能保持稳定运行，为高精度涂层中的纳米级控制提供纯净、可靠的数据支撑，是对热条件下可靠性有高要求应用的理想之选。

在电极选择上，tan05rcig 提供了金（au）、银（ag）和铝（al）三种选项，以满足不同场景的需求。金电极具有卓越的耐化学腐蚀性和热稳定性，适用于 ald 及侵蚀性蒸汽环境；银电极拥有较高的 q 因子，是超洁净光学或半导体薄膜工作的优质选择；铝电极与石英的热匹配性强，更适合高温铝沉积或抗氧化用途。每种电极的涂层均采用真空沉积工艺，在附着力、均匀性和边缘清洁度方面都经过严格的质量控制，确保性能稳定。

该石英晶体的技术参数同样亮眼，其直径为 14 毫米，工作温度范围涵盖 100°c 至 300°c，表面经过研磨处理，q 因子典型值超过 70,000，应力敏感性极低。产品以 10 个晶体为一组进行包装，方便用户储备与更换。

凭借出色的性能，tan05rcig 石英晶体在多个领域得到广泛应用，包括 ald 和 cvd 薄膜监控、高温 pvd 和溅射、光学涂层沉积以及半导体和 oled 制造等。