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这些 5.000 mhz rc(辐射补偿)at 切割石英晶体由 phillip technologies 设计,可在热应力下保持测量精度和频率稳定性。它们采用双锚电极模式,与 inficon、maxtek、sigma instruments 和 sycon 沉积控制器和 qcm 系统完全兼容。
rc 技术解决了标准晶体在高能沉积环境中的局限性。这些晶体与等离子体兼容,对应力不敏感,并且不会受到热辐射引起的漂移的影响,是 ald、cvd、溅射和高温 pvd 等要求苛刻的薄膜工艺的理想选择。
可提供金、银或铝电极:
金(au):耐化学腐蚀性和热稳定性--适用于 ald 和侵蚀性蒸汽环境
银(ag):q 因子--适合超洁净光学或半导体薄膜工作
铝(al):与石英的热匹配性强--适合高温铝沉积或抗氧化用途
每个涂层都是真空沉积的,对附着力、均匀性和边缘清洁度都有严格的质量控制。
产地:美国
频率:5.000 mhz ±75 hz
晶体切割:at(rc 配方)
直径:14 毫米
电极模式: 双锚(inficon 式)
工作温度范围: 100°c 至 300°c
表面处理:研磨
q 因子:>70,000 典型值
应力敏感性:非常低
包装尺寸:10个晶体
ald 和 cvd 薄膜监控
高温 pvd 和溅射
光学涂层沉积
半导体和 oled 制造
热循环和重辐射环境
晶体稳定性要求超过 100°c 的系统
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