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philliptech石英晶体tan05rcig
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philliptech石英晶体tan05rcig -加拿大28

产品介绍

这些 5.000 mhz rc(辐射补偿)at 切割石英晶体由 phillip technologies 设计,可在热应力下保持测量精度和频率稳定性。它们采用双锚电极模式,与 inficon、maxtek、sigma instruments 和 sycon 沉积控制器和 qcm 系统完全兼容。

rc 技术解决了标准晶体在高能沉积环境中的局限性。这些晶体与等离子体兼容,对应力不敏感,并且不会受到热辐射引起的漂移的影响,是 ald、cvd、溅射和高温 pvd 等要求苛刻的薄膜工艺的理想选择。

性能特点

  • 抗辐射热和源通量造成的频率偏移。
  • 消除快门打开或等离子点火造成的误报率峰值。
  • 在温度循环、离子轰击和薄膜应力作用下保持稳定。
  • 为高精度涂层中的纳米级控制提供纯净数据。
  • 这些晶体对于在热条件下可靠性至关重要的任何应用都是必不可少的。

可选功能与配件

可提供金、银或铝电极:

金(au):耐化学腐蚀性和热稳定性--适用于 ald 和侵蚀性蒸汽环境

银(ag):q 因子--适合超洁净光学或半导体薄膜工作

铝(al):与石英的热匹配性强--适合高温铝沉积或抗氧化用途

每个涂层都是真空沉积的,对附着力、均匀性和边缘清洁度都有严格的质量控制。

技术参数

产地:美国

频率:5.000 mhz ±75 hz

晶体切割:at(rc 配方)

直径:14 毫米

电极模式: 双锚(inficon 式)

工作温度范围: 100°c 至 300°c

表面处理:研磨

q 因子:>70,000 典型值

应力敏感性:非常低

包装尺寸:10个晶体

产品应用

ald 和 cvd 薄膜监控

高温 pvd 和溅射

光学涂层沉积

半导体和 oled 制造

热循环和重辐射环境

晶体稳定性要求超过 100°c 的系统


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